杭州璞璘科技（Prinano）近日通过官方微信公众号通知，与深圳力策科技伙同秉承自主研发的真空气压式纳米压印决策，收场8英寸光芯片可范围化量产考据。
据报说念，该本领皆备绕开传统深紫外（DUV）光刻道路，将光芯片制变老本压缩至DUV决策的颠倒之一，为受ASML光刻机出口收尾的中国芯片产业带来了新的晨曦。
这次量产冲破的中枢是璞璘科技自主研发的PL-AS真空气压式晶圆级纳米压印光刻开导，配合定制化双层压印胶材料体系与中枢工艺，通盘出产历程无需使用ASML的DUV光刻机。
不同于行业主流的辊压和佳能喷墨步进式道路，该开导秉承“空气垫”式面来去压印旨趣，能将晶圆整面压力均匀性流毒限度在0.5%以内，残余层厚度偏差小于2nm，同期维持硬质与柔性模板，线宽区分率可达10nm以下。
滚球app中国官方网站比拟辊压的线来去情势，气压式透顶处罚了压印均匀性不及的问题；而对比佳能的步进式工艺，其全域一次压印的后果更符合光芯片的大范围出产。
更关节的是，纳米压印本领收场了跨圭臬微纳结构的一次成型。传统DUV光刻制造光芯顷然，靠近从几十纳米到数微米的复杂结构需要多说念工艺和多台开导配合，LOL比赛下注2026中国官网入口而纳米压印只需将整个结构制作在团结派模板上，一次压印即可完成复刻，大幅镌汰了出产周期并责怪了良率损耗。
当今，该本领已在多个光芯片畛域收场量产考据，这些光芯片无为运用于光通讯、传感和激光雷达畛域。
不外，行业关于纳米压印本领的本色价值仍存在无为争议。《南华早报》指出，该本领在量产范围、良率以及非光子芯片畛域的适用性尚未获得充分考据。
盘考机构SemiAnalysis示意，尽管纳米压印开导自身老本更低，但其本色老本上风取决于产能、模板出产、颓势率和工艺集成水平，短期内难以替代DUV和EUV在先进逻辑芯片制造中的主导地位。璞璘科技也未败露具体的出产良率、出货量、客户订单及颓唐考据数据，其营业化范围仍有待进一步不雅察。
这次冲破也反应出在好意思国主导的出口经管下，中国科技企业探索相反化本领悟线的举座趋势。从华为近期提议的韬（τ）定律将发展要点从晶体管微缩转向系统级数据传输、先进封装和三维集成，到千般开导初创企业在细分芯片畛域寻找实用的制造替代决策，国产半导体产业正在通过多条旅途冲破本领顽固。
设立于2017年的璞璘科技，首创东说念主葛海雄兵从纳米压印本领前驱、好意思国工程院院士周郁。2025年8月，该公司已请托中国首台半导体级纳米压印光刻开导。这次8英寸光芯片量产冲破，记号着国产纳米压印本领从本质室走向产业化运用的关节一步。
PL-AS 半导体级真空气压式纳米压印机
12寸晶圆光芯片压印展示
纳米压印光刻本领量产激光雷达芯片展示LOL比赛下注(中国)官方网站